Capability

Wafer Size

Capability

Wafer Size

150mm

200mm

150mm

200mm

Photolithography

Coater (Track)

Y

Y

Furnace

Thermal oxidation

Y

Coater

(Double side handling)

Y

Anneal

Y

Coater (Spray)

Y

Y

Alloy

Y

Developer (Track)

Y

Y

LPCVD

Polysilicon

Y

Developer

(Double side handling)

Y

Silicon nitride

Y

Stepper

Y

Ion Implanter

Medium current

Y

Aligner

Y

Y

High current

Y

Bonding

Bonder

Y

Grinding

Coarse grinding

Y

Dry Etching

Si DRIE

Y

Fine grinding

Y

Polysilicon

Y

Ultra-fine grinding

Y

Dielectric

Y

Y

Blade Dicing

Silcion dicing

Y

Metal

Y

Glass dicing

Y

Glass DRIE

Y

Y

Laser Dicing

Stealth laser dicing (silicon)

Y

Wet Etching

Wafer clean

Y

Pick&Place

Pick&Place

Y

Si

Y

WAT / CP test

Prober

Y

Silicon oxide

Y

Manual station

Y

Silicon nitride

Y

Metrology

CD SEM

Y

Metal

Y

Ellipsometer / Nanospec

Y

Lift-off

Y

Y

Stress meter

Y

PR strip

Y

Y

Surface profiler

Y

Sputter

Metal sputter

Y

3D profiler

Y

Reactive sputter

Y

IR microscope 

Y

Evaporator

Metal

Y

Y

White-light interferometer

Y

Electroplating

Cu plating

Y

PECVD

Amorphous silicon

Y

Silicon oxide

Y

Y

Silicon nitride

Y

Y

Silicon carbide

Y

PSG

Y

BPSG

Y